上海封创成像技术有限责任公司

台湾美日先进光罩股份有限公司缘于「翔准先进光罩股份有限公司」与「台湾大日印光罩公司」于2014年4月4日合并后更名而生，合并后翔准先进光罩为存续公司，台湾大日印光罩则为消灭公司。翔准先进光罩公司于1997年10月4日获准成立进入新竹科学园区，目前于新竹及台中科学园区各有一座生产工厂，台湾大日印公司成立于2007年11月9日，在新竹科学园区设有一座生产工厂。合并后的台湾美日先进光罩将是全台湾唯一拥有三座生产工厂之光罩制造厂，以生产高层次集成电路光罩为主要目标。本公司系结合国内各大晶圆及光罩厂杰出之专家，共同创设具有相位移光罩（Phase Shift Mask，PSM）技术之世界一流光罩公司，并将对各晶圆厂提供微影制程（photolithography），计算机仿真（computer simulation），计算机辅助设计（CAD）等技术咨询服务，以提升国内晶圆厂之制程技术，增强IC业者之国际竞争力。公司之经营目标如下：一、 建立量产成熟及高阶光罩之能力，包括28奈米的先进技术。二、 提升台湾IC工业微影制程之技术层次。。三、 成为所有IC公司虚拟之光罩制作厂（virtual mask shop）。